• In situ nucleation studies of ALD Copper thin films 

      Flaten, Andreas (Master thesis, 2020)
      Ettersom moderne elektroniske enheter stadig blir mindre og mer komplekse, vil ultratynne kobberfilmer med skarpe grensesnitt bli uunnværlige i fremtiden. Oppløsning på atomnivå kan oppnåes ved atom lag deponering(ALD), ...